VSE knjižnice (vzajemna bibliografsko-kataložna baza podatkov COBIB.SI)
-
Growth of graphene nanowalls in low-temperature plasma [Elektronski vir] : experimental insight in initial growth and importance of wall conditioningJagodar, Andrea ...Plasma-enabled growth of vertically aligned graphene nanowalls (CNWs) and the influence of plasma parameters are widely investigated to produce high-quality CNWs. The initial growth steps of CNWs and ... the impact of the plasma chamber condition still need to be explored. This work investigates the initial growth steps of CNWs and the influence of plasma chamber conditions using advanced spectroscopic and microscopic techniques. The changes in substrate surfaces and CNW growth were studied in two steps: pre-treatment and plasma deposition. Angle-resolved NEXAFS observations on the samples produced during both stages suggest that growth starts horizontally on the substrate and changes to vertical in one critical moment. Also, we observed that CNW growth occurs not only at the deposition stage but also during the pre-treatment stage, indicating the influence of the chamber wall during the growth. Switching from horizontal to vertical orientation could be explained by the surface energy disbalance during the initial growth stages. The pre-treatment and conditioning of the chamber control the oxygen presence and provide a higher amount of carbon precursor for a fast, stable and controllable growth process. These results will direct the future possibilities of upscaling plasma systems for large-scale growth of CNWs for commercial applications by considering the influence of plasma and chamber conditions.Vir: Applied surface science [Elektronski vir]. - ISSN 1873-5584 (Vol. 643, [article no.] 158716, Jan. 2024, str. 1-10)Vrsta gradiva - e-članek ; neleposlovje za odrasleLeto - 2024Jezik - angleškiCOBISS.SI-ID - 169571587
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
| Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | |
Faktor vpliva
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
| Ime baze podatkov | Področje | Leto |
|---|
| Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
|---|---|
| Jagodar, Andrea | ![]() |
| Santhosh, Neelakandan Marath | 55438 |
| Strunskus, Thomas | ![]() |
| Wahl, Erik von | ![]() |
| Košiček, Martin | 52048 |
| Cvelbar, Uroš, 1975- | 22289 |
| Kovačević, Eva | ![]() |
Vir: Osebne bibliografije
in: SICRIS
Izberite prevzemno mesto:
Prevzem gradiva po pošti
Naslov za dostavo:
Med podatki člana manjka naslov.
Storitev za pridobivanje naslova trenutno ni dostopna, prosimo, poskusite še enkrat.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrano prevzemno mesto in dokončali postopek rezervacije.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrano prevzemno mesto in naslov za dostavo ter dokončali postopek rezervacije.
S klikom na gumb "V redu" boste potrdili zgoraj izbrani naslov za dostavo in dokončali postopek rezervacije.
Obvestilo
Trenutno je storitev za avtomatsko prijavo in rezervacijo nedostopna. Gradivo lahko rezervirate sami na portalu Biblos ali ponovno poskusite tukaj kasneje.
Gesla v Splošnem geslovniku COBISS
Izbira mesta prevzema
Gradivo iz matične enote je brezplačno. Če je gradivo na mesto prevzema dostavljeno iz drugih enot, lahko knjižnica to storitev zaračuna.
| Mesto prevzema | Status gradiva | Rezervacija |
|---|
Rezervacija v teku
Prosimo, počakajte trenutek.
Rezervacija je uspela.
Rezervacija ni uspela.
Rezervacija...
Članska izkaznica:
Mesto prevzema:
