-
ProceedingsInternational Conference on Microelectronics, Devices and Materials (44 ; 2008 ; Fiesa); Workshop on Advanced Plasma Technologies (2008 ; Fiesa)Vrsta gradiva - konferenčni zbornik ; neleposlovje za odrasleZaložništvo in izdelava - Ljubljana : MIDEM - Society for Microelectronics, Electronic Components and Materials, 2008Jezik - angleškiISBN - 978-961-91023-8-1COBISS.SI-ID - 240881664
Avtor
International Conference on Microelectronics, Devices and Materials |
Workshop on Advanced Plasma Technologies
Drugi avtorji
Amon, Slavko |
Mozetič, Miran, 1961- |
Šorli, Iztok, 1954- |
Strokovno društvo za mikroelektroniko, elektronske sestavne dele in materiale |
Ljubljana
Teme
Mikroelektronika |
Mednarodna posvetovanja |
Materiali |
Mednarodna posvetovanja |
Elektronika |
Mednarodna posvetovanja |
zborniki |
mednarodne konference |
mikroelektronika |
elektronika |
plazma |
plazma
| Signatura – lokacija, inventarna št. ... |
Status izvoda | Rezervacija |
|---|---|---|
|
oddelek za odrasle 621.3 PROCEEDINGS 0000002008 IN: 10191051 oddelek za odrasle 621.3 PROCEEDINGS 2008 IN: 10191051 |
prosto - na dom, čas izposoje: 1 mes.
|
Vnos na polico
Trajna povezava
- URL:
Faktor vpliva
Dostop do baze podatkov JCR je dovoljen samo uporabnikom iz Slovenije. Vaš trenutni IP-naslov ni na seznamu dovoljenih za dostop, zato je potrebna avtentikacija z ustreznim računom AAI.
| Leto | Faktor vpliva | Izdaja | Kategorija | Razvrstitev | ||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | JCR | SNIP | |
Faktor vpliva
Baze podatkov, v katerih je revija indeksirana
| Ime baze podatkov | Področje | Leto |
|---|
| Povezave do osebnih bibliografij avtorjev | Povezave do podatkov o raziskovalcih v sistemu SICRIS |
|---|---|
| Amon, Slavko | 01926 |
| Mozetič, Miran, 1961- | 10429 |
| Šorli, Iztok, 1954- | 01718 |
Izberite prevzemno mesto:
Prevzem gradiva po pošti
Obvestilo
Gesla v Splošnem geslovniku COBISS
Izbira mesta prevzema
| Mesto prevzema | Status gradiva | Rezervacija |
|---|
Prosimo, počakajte trenutek.